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半導體廢水處理設備

 發布時間:2021-04-01 17:09:49瀏覽量:165
  一、半導體廢水處理設備簡介:
 
  伴隨著電子器件信息技術產業的迅速發展趨勢,其重要原料光敏劑的市場的需求越來越大。光敏劑是光刻技術商品生產製造中重要的關鍵原材料之一,生產製造的光刻技術廣泛運用於光學信息技術產業的微細圖型路線的生產加工製做,是微細生產加工技術性的至關重要原材料。
 
 
  半導體器件汙水來源於,主要是光刻技術和細致有機化學全產業鏈相關產品,汙水中關鍵空氣汙染物為鹽份、COD、苯、二甲苯、原油類、高錳酸鹽指數等空氣汙染物,分成濃度較高的有機化學汙水、較低濃度的有機化學汙水、高鹽汙水等。
 
  針對濃度較高的有機化學汙水先開展預備處理方能開展事後生物化學解決,高鹽汙水需開展除鹽解決後才能進到事後生物化學解決。
 
  針對較低濃度的汙水可與曆經預備處理後的濃度較高的汙水和高含鹽量汙水混和後開展生物化學解決。曆經生物化學解決後的汙水還需開展深層解決合格後才能排汙。
 
 
 
  因而,半導體器件汙水處理廠的整體加工工藝為預處+UASB+A/O+空氣氧化沉定。
 
  二、半導體廢水處理設備優勢:
 
  1、應用除氣膜係統軟件解決水裏的高錳酸鹽指數,耗能極低,僅有基本的吹脫法加工工藝的5%,占地僅有30%。
 
  2、選用一體化的石灰粉配液、加藥設備,以合理減少人力成本,完成自動化技術運行;
 
  3、選用高效率汙泥處理、榨取式帶式壓濾機,合理減少淤泥中的含水量,降低淤泥的受托花費,完成淤泥資源化。
 
 
  三、半導體廢水處理設備特性:
 
  1、可大大減少廢水治理站基本建設項目投資成本費和運作成本費。
 
  2、因為改性材料膜分離技術收購係統軟件出水出水水體可做到工業生產自來水標準,導電率150us/cm上下,因而,每日生產廠家所應用飲用水將降低60%之上,大幅度降低飲用水水電費及原化水係統軟件運作花費,另外可節省60%之上汙水排汙費用。可大大減少廢水治理站基本建設項目投資成本費和運作成本費。

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